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超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机一种超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机，其中该超声波清洗装置，用于对喷出配向液的喷头进行清洁，包括用于盛放清洗液的清洗槽，与所述清洗槽连接的、用于产生超声波的超声波发生装置，还包括与所述清洗槽连接的、用于回收和储存所述清洗液的储存器。该超声波清洗装置可以对发生堵塞的滴下孔口进行、彻底清洁、耗时短且不会使机台内的洁净度下降且可回收清洗液。
含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。
适用于2"～6"硅片的清洗及湿法腐蚀。能够有效的去除硅片表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。清洗槽部分包括化学槽、加热槽和快排槽设备的电气、管路、循环系统，均采用部件；PLC控制，清洗时间可调。设备组成:在线加热、清洗槽、伺服系统、电气控制系统、机架等。可根据用户要求配置氮气枪、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪等本设备为浸泡式清洗机，用于半导体行业扩散炉石英管清洗槽体材料为聚丙烯（PP）塑料或PVDF材料，支架采用不锈钢，耐腐蚀管件、泵、电磁阀均选用的是产品，性能稳定触摸屏PLC控制，流量及温度，超纯净泵的压力、流量可设置选配气体喷枪可根据用户要求订制清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，
原位清洗也称定位清洗法。前提是设计一种的胶料，这种胶料可覆贴在模腔表面。硫化后撕下此覆贴层时，原来的模垢层也被一起带了下来，从而使模腔表面得到一次彻底的清洗。设计这种胶的关键是配加能起清洗作用的组分(通常是含氨基或羟胺的化合物)，具体品种有:聚乙醇胺、二乙醇胺、2一氨基一2一甲基一1一丙醇。在硫化过程中，能渗入金属与模垢之界面，从而削弱模垢与金属的结合，待硫化结束，除垢也同步完成。与其他清洗方法相比，原位清洗具有以下三方面的优点:清洗速度快。清洗胶的硫化／促进体系很强，硫化周期很短。如MCR在160-190~C温度下，正硫化时间仅5min。。原位洗模胶所需的洗模时间很短，耗能较少。对于体积大的模具，这种反差更为明显。对模具而言，不会因为洗模而影响表面光洁度，更不会影响尺寸精密度。超声波清洗的原理把液体放入清洗槽内，给槽内作用超声波。由于超声波与声波一