濮阳模具清洗机厂家
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
除了上述情况，更重要的是生产中及时防备镀层的损坏，对于加工中的酸性气体与积碳类的东西，应及时用模具清洗剂进行清洗，再用防锈剂认真做好防锈。
超声波清洗槽的清洗篮、超声波清洗槽及其超声波清洗机超声波清洗设备技术领域，提供了一种超声波清洗槽的清洗篮、超声波清洗槽及其超声波清洗机，所述清洗篮设置于所述超声波清洗槽的内部，包括:底板，设置于所述清洗篮的底部，所述底板一体成型制成；侧壁，设置于所述清洗篮的侧面，与所述底板相互连接构成容纳槽。借此，本技术实现了有效的减少了通过清洗篮的超声波的衰减，提升了清洗效果。一种用于灌溉设备部件的超声波清洗装置及清洗方法
在日常的生产制作过程中，模具很容易产生磨损和损伤，所以要时常保养，才能延长模具的使用寿命，降低企业的消耗成本。模具的保养:要知道模具保养比模具维修更为重要，模具维修的次数越多，那么其寿命就越短；而模具保养得越好，其使用寿命就会越长。