临沧模具清洗设备公司
适用于2"～6"硅片的清洗及湿法腐蚀。能够有效的去除硅片表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。清洗槽部分包括化学槽、加热槽和快排槽设备的电气、管路、循环系统，均采用部件；PLC控制，清洗时间可调。设备组成:在线加热、清洗槽、伺服系统、电气控制系统、机架等。可根据用户要求配置氮气枪、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪等本设备为浸泡式清洗机，用于半导体行业扩散炉石英管清洗槽体材料为聚丙烯（PP）塑料或PVDF材料，支架采用不锈钢，耐腐蚀管件、泵、电磁阀均选用的是产品，性能稳定触摸屏PLC控制，流量及温度，超纯净泵的压力、流量可设置选配气体喷枪可根据用户要求订制清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，
目前，清洁中心孔的常用办法是将五金件螺丝钉翻转，使中心孔在下面。当喷嘴对准后，用中、高压水流将喷嘴排出后停止超声清洗。由于清洗效果的不同，其优缺陷也各不相同。定向冲洗法对五金件螺丝钉是有效的，但污染物颗粒可能会阻塞和磨光定向喷嘴。后续清洗效果很差，是打磨后的五金件螺丝钉超声波清洗效果好。但是，假如你把五金件螺丝钉翻过来，浸泡在清洗液中，它的一个孔或部可能没有填充液体，这就会影响超声波气泡在外表的效果。此外，超声波模具清洗机可用于肃清工件上的自在污染物。旋转式多工位超声波模具清洗机，清洗不及时，影响清洗效果。由于属于超声波模具清洗机技术范畴，升降油缸附着在导轨上，因而导轨附着在底盘上，在导向套降落的位置，枢架附着在底盘上。用超声波模具清洗机来清洗五金件螺丝钉，洗得真洁净!
模具清洗标准模具的清洗: 1.保证模具机水箱的水是饱和状态。2.摆放好拆卸下来的模具。清具的反面一定要对着水阀 。 (保证水 枪对模具的反面喷射，避免水压直接对模 具的正面喷射)3.待模具清洗干净时将铜盘按照摆放继续开启模具清洗机。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台