金昌模具清洗机厂家电话
去离子水＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中
模具清洁机特点:无需耗材、化学试剂及添加液，被清洗下来的残渣都是固态状粉末，可以进行回收，不会产生污染；可以清洗，在整个表面处理中是无接触、无研磨的物理过程，保护了材料性能，不会使表面强化或变性，而且质量；与自动化机械配合，可无人工操作，能清洗不易达到的部位，从而避免了人员在危险场所的人身保障；清除各种工件零件的附着物、氧化物、涂层，使之达到更高的清洁度，不损伤基材表面做到无损伤清洗；
模具专用清洗剂，具有很强的清洁力，能迅速清除模具表面的污积物，有效去除模具表面的防锈膜、油脂、蜡质以及工业污垢，不残留痕迹，也可以清除附着于模具表面的胶料或顶针顽劣污渍。
空化阂与液体含气量有关，含气量越少，空化阂越高。空化阂与清洗液温度有关，清洗液温度升高，对空化有利。但清洗液温度过高时，气泡中蒸气压增大，因在气泡闭合期增强了缓冲作用而使空化减弱。而温度还与清洗液的溶解度有关。对于水清洗液较适宜的温度约为60Y。根据超声清洗的机理我们可选择状态，并得到的清洗效果。还应注意到选择的声强。声强过高会产生大量气泡，在声波表面形成一道屏障，使声波不易辐射到整