贺州模具清洗机厂家
当模具没有连续生产，或生产完成后，如果冷却水将模具冷却到露点以下，空气中的潮气就会在模具表面凝结成水珠，这些水珠很易使模具生锈，虽然在成型过程中由于熔料温度高，温度不至于降至露点以下，但成型一旦停止，则很易形成冷凝水。所以当再操作人员喷上模具防锈剂，水份会被覆盖在模具防锈剂下面，模具表面中间，结果是加速模具的生锈。因此，在生产过程中好不要随便停止生产操作。当因情况停止生产，则应及时关断冷却水，如果发现模具上出现水珠，要及时擦干。并配用防锈剂防锈。
适用于2"～6"硅片的清洗及湿法腐蚀。能够有效的去除硅片表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。清洗槽部分包括化学槽、加热槽和快排槽设备的电气、管路、循环系统，均采用部件；PLC控制，清洗时间可调。设备组成:在线加热、清洗槽、伺服系统、电气控制系统、机架等。可根据用户要求配置氮气枪、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪等本设备为浸泡式清洗机，用于半导体行业扩散炉石英管清洗槽体材料为聚丙烯（PP）塑料或PVDF材料，支架采用不锈钢，耐腐蚀管件、泵、电磁阀均选用的是产品，性能稳定触摸屏PLC控制，流量及温度，超纯净泵的压力、流量可设置选配气体喷枪可根据用户要求订制清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，
是向金属表面发射气体,用桑拿的效果除去金属表面的脏物,不纯物,还可以完全除去树脂成分,湿气;通过超声波的震动污垢剥离漂浮起来,金属附在阴极,即使相当小的角落里的污垢也能完全去除
去离子水＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中