烟台模具清洗设备厂家地址
硅片清洗设备特点手动硅片清洗设备特点:可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。功能槽包括:加热酸缸、HF腐蚀、BHF（HF恒温缓冲腐蚀）、超声清洗槽、恒温水浴、QDR（快排冲水）、电炉等。清洗功能槽模块化，各部分有独立的控制单元，可随意组合。关键件采用部件，提高设备的性及使用寿命。采用耐腐蚀PP板材，防酸、防腐，有效避免酸液的侵蚀。控制系统的元器件具备防腐、防潮功能，确保的工作环境。
专门制备一种水悬浮液，其成分包括:碳化硅20％，碳酸钠1．5％，水78．5％。将上述洗液直接喷向模腔表面，洗掉污垢，把残留于表面的磨料冲刷掉即可。本法的设备构造简单，使用也方便，而且清洗一次后可保持较长时间。不助于改善劳动条件(指与喷砂法相比)，也提高了产品质量。本法需有设备配套，其构造见。其是一种半机械／半手工方法，清洗材料既非固体状颗粒，也非水悬浮液，而是经过配合的膏状体。其成分包括磨料、氧化铬、液态洗液、煤油及其他化学物品，如硅酸、硬脂酸、裂解油脂等。操作时，将软膏涂在毡片上，可以用手工擦，也可由电动机往复驱动，实现半自动擦洗。因由电动机提供动力，强度高，对模具的材质要求较高，渗碳钢或镀铬钢适用。
是向金属表面发射气体,用桑拿的效果除去金属表面的脏物,不纯物,还可以完全除去树脂成分,湿气;通过超声波的震动污垢剥离漂浮起来,金属附在阴极,即使相当小的角落里的污垢也能完全去除
采用多点支撑式工件旋转驱动装置，稳定、。操作符合人机工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、灵活。可配置自动氮气鼓泡系统，有效提高产品质量，缩短清洗时间。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用。关键件采用件，提高了设备的性。采用耐腐蚀PP板材，防酸、防腐，有效避免酸雾的侵蚀。封闭式清洗，有效改善工作环境，保障操作人员。控制系统同时具备完善防腐、防潮功能，确保的工作环境化学湿台适用于半导体行业中基片的制造、集成电路芯片的制造等清洗工艺过适用于2"～6"基片的半导体清洗过程中，去除工件表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。可根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元。各部分有独立的控制单元，可随意组合；配有在线方式的去离子水加热系统。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。可根据客户工艺定制。化学操作实验台