龙岩双槽超声波清洗机厂家直销
半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。
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液晶玻璃清洗烘干机是对液晶玻璃进行清洗、烘干的设备。其工作流程是由胶辊传送液晶玻璃片，经过喷淋、毛刷刷洗、海绵吸水及热风烘干，达到清洗液晶玻璃表面污垢及杂质的目的。上下胶辊传送速度同步调整，无级可调。烘干组件对玻璃片的烘干温度可调。吹风风量无级可调，玻璃片烘干所需合理温度。玻璃片厚度调整采用丝杆传动和精密导轨导向调节，具体调节量由百分表指示。导轨、电机控制元件等均选用产品，品质。机械关键零件均采用不锈钢材料。可清洗29”*29”及以下尺寸的SMT钢网板及PCB板。清洗加热烘干仅需10~15分钟。采用超声波清洗方式，清洗效果佳，效率高。系统采用清洗池粗/精两次过滤，及溢流池的一次过滤可清洗焊锡膏，SMT胶，助焊剂残留，油污及其它颗粒污染物等。系统采用循环喷淋控制，可保持工作液面不变及去除液面比重较轻的污染物如助焊剂，SMT胶等，并工件取出时不受清洗液的二次污染等。
超声波清洗机利用超声波的物理清洗作用，加上清洗介质的化学作用，再经过优化选择超声波频段及功率密度，可以实现对各种零部件内外油污、积碳、胶质等污物的彻底清洗。因此，我们要加大对超声波清洗机的使用和注意事项的重视，保证超声波清洗机的使用安全和延长超声波清洗机的使用寿命。
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超声清洗工艺及清洗液的选择在购买清洗系统之前，应对被清洗件做如下应用分析:明确被洗件的材料构成、结构和数量；分析并明确要清除的污物；决定所要使用的清洗方法，判断应用水性清洗液还是用溶剂，需做清洗实验。只有这样，才能提供合适的清洗系统、设计合理的清洗工序以及清洗液。化学剂的选择考虑到清洗液的物理特性对超声清洗的影响，其中蒸汽压、表面张力、黏度以及密度应为显着的影响因素。温度能影响这些因素，所以它也会影响空化作用的效率。清洗系统使用清洗液。水性系统通常由敞口槽组成，工件浸没其中。而复杂的系统会由多个槽组成，并配备循环过滤系统、冲淋槽、干燥槽以及其它附件。对於使用溶剂的系统，多为超声波汽相除油脂清洗机，常配备废液连续回收装置。超声波汽相清除油脂过程是由溶剂蒸发槽和超声浸洗槽组成的集成式多槽系统完成的。在热的溶剂蒸汽和超声激荡共同作用下，油、脂、蜡以及其他溶於溶剂的污垢就被除去。