玉溪双槽超声波清洗机厂家有哪些
液晶玻璃清洗烘干机是对液晶玻璃进行清洗、烘干的设备。其工作流程是由胶辊传送液晶玻璃片，经过喷淋、毛刷刷洗、海绵吸水及热风烘干，达到清洗液晶玻璃表面污垢及杂质的目的。上下胶辊传送速度同步调整，无级可调。烘干组件对玻璃片的烘干温度可调。吹风风量无级可调，玻璃片烘干所需合理温度。玻璃片厚度调整采用丝杆传动和精密导轨导向调节，具体调节量由百分表指示。导轨、电机控制元件等均选用产品，品质。机械关键零件均采用不锈钢材料。主要性能规格:外形尺寸（约）:720mm×1726mm×1290mm电源:AC220V50HZ工作高度:750mm～800mm胶辊快转动速度:约５m/min(速度可调)毛刷辊转动速度:360r/min(速度可调)清洗玻璃尺寸范围:300mm≥长度＞25mm150mm≥宽度＞10mm5.08mm≥厚度＞0.4mm液晶玻璃清洗烘干机
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推荐使用水基MPC清洗剂，可循环使用，循环次数可达1000~3000次，大限度降低清洗的运行成本。可清洗小尺寸直径0.2mm,及0.2mm间隙的微小孔隙。磁力驱动泵避免系统泄漏清洗完毕后的自动提开机构超声波清洗原理超声波在超声波在本质上和声波是一样的，都是机械振动在弹性介质中的传播过程，超声波和声波的区别仅在于频率范围的不同。声波是指人耳能听到的声音，一般认为声波的频率在20～20000赫范围内，而振动频率超过20千赫以上的声波则称为超声波。超声波中振动频率在100千赫以下的称为低频超声波；振动频率在100千赫以上到数十兆赫的称为高频超声波。用于清洗的超声波所采用的频率为20～400千赫，属于低频及高频超声波的范围。
超声波清洗机采用不易燃洗涤剂，不使用易燃易爆物质进行清洗剂，使用设备时需确保易燃易爆物质的应用避免场合，用户必须使用一定的物质在特殊情况下，应咨询部门确认安全，并采取适当的安全措施。
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炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台硅片清洗设备特点手动硅片清洗设备特点:可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。功能槽包括:加热酸缸、HF腐蚀、BHF（HF恒温缓冲腐蚀）、超声清洗槽、恒温水浴、QDR（快排冲水）、电炉等。