广西气相超声波清洗机厂家
超声波清洗与其他清洗方法的比较:超声波清洗还可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，有清洗洁净度高、清洗速度快等。超声波设备的组成标准超声波清洗设备由三部分组成:超声波发生器（又称超声波电源）、换能器及其它的辅助系统。超声波发生器将工频电转变成28KHZ以上的高频电信号，通过电缆输送到换能器上。一般超声波换能器是固定在清洗槽的底板上，清洗槽内装满了液体，当换能器被加上高频电压后，它的压电陶瓷元件在电场作用下便产生纵向振动。超声波换能器（又称声头）是一种率的换能元件，能将电能转换成强有力的超声波振动，在产生超声波振动时，仿佛是一个小的活塞，振幅很小，约只有几微米。但这个振动加速度很大（几十至几千个g）；槽上具有许多个换能器，施加相同的频率及相位的电能时，就合成了一个巨大的活塞进行往复振动，这种振动的现象，就是平时我们所说的超声波。以下是超声波的组成部分说明:
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酸洗→排液→注纯水→溢流→注水→水洗→排液石英管清洗机特点采用浸泡、旋转式清洗；酸清洗为滚动浸泡式；水清洗为溢流式。采用多点支撑式工件旋转驱动装置，稳定、。操作符合人机工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、灵活。可配置自动氮气鼓泡系统，有效提高产品质量，缩短清洗时间。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用。关键件采用件，提高了设备的性。采用耐腐蚀PP板材，防酸、防腐，有效避免酸雾的侵蚀。封闭式清洗，有效改善工作环境，保障操作人员。控制系统同时具备完善防腐、防潮功能，确保的工作环境化学湿台适用于半导体行业中基片的制造、集成电路芯片的制造等清洗工艺过程。适用于2"～6"基片的半导体清洗过程中，去除工件表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。可根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元。各部分有独立的控制单元，可随意组合；配有在线方式的去离子水加热系统。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。可根据客户工艺定制。
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z的磁力换能器和25KHz的压电换能器。高频通常被用於清洗较小、较精密的零件，或清除微小颗粒。高频还被用於被工件表面不允许损伤的应用。使用高频可从几个方面改善清洗性能。随着频率的增加，空化泡的数量呈线形增加，从而产生更多更密集的冲击波使其能进入到更小的缝隙中。如果功率保持不变，空化泡变小，其释放的能量相应减少，这样有效地减小了对工件表面的损伤。高频的另一个优势在於减小了粘滞边界层（泊努里效应），使得超声波能够发现细小的微粒。这种情况近似於小溪中水位降低时可以看清溪底的小石子。本公司提供了一系列中间频率的产品，有40kHz、80kHz、120kHz和170kHz。清洗微小的颗粒时，可选用频率为350kHz的产品。
为了保证超声清洗设备良好的使用品质和稳定的运转效果必须要采用合适的溶剂进行操作，借助超声清洗设备自身的空化效果和功能模式并使用优质的溶剂作为基础，才能够让这种超声清洗设备的运转更加畅快并且拥有更好的品质，也能够借助合理的容器避免对设备的运转造成腐蚀，让设备能够呈现稳定运转的同时拥有更好的使用寿命