伊春双槽超声波清洗机厂家供应
因空化现象产生如图3a所示的气泡。由冲击形成的污垢层与表面之间的间隙和空隙渗透,由于这种小气泡与声压同步膨胀,收缩,产生像剥皮那样的物理力重复作用于污垢层,污垢一层层被剥开,如图3b所示,小气泡再继续向前推进,直到污垢层被剥下为止。这就是空化二次效应。超声清洗中清洗液的超声振动本身对清洗的作用力。例如:20kHz,2W/cm2的超声波在清洗液中传播时,它将引起质点的振动,位移幅度1.32lLm,速度0.16m/s,加速度为2.04X104m/sz,(约为2删g的重力加速度),声压为1.45X105Pa,这表明清洗物表面的污垢层每秒将遭到2万次的激烈冲击。
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半导体/LED/LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。
超声波清洗机采用不易燃洗涤剂,不使用易燃易爆物质进行清洗剂,使用设备时需确保易燃易爆物质的应用避免场合,用户必须使用一定的物质在特殊情况下,应咨询部门确认安全,并采取适当的安全措施。
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某物质当其溶于水即使浓度很小时,能显著降低水同空气的表面张力,或水同其他物质的界面张力,则该物质称为表面活性剂。水溶性表面活性剂的分子结构都具有不对称的、性的特点.向吸附在水溶液同其他相的界面上,这样大大改变了体系的物理性质,是各相界面的界面张力。根据表面活性剂溶于水时亲水基团所表现出来的电性,可把表面活性剂分为阴离子、阳离子、中性及两性表面活性剂。螯合剂和溶液中的某些金属离子如Ca2+、Mg2+等形成稳定的螯合体,从而使洗涤剂具有抗硬水性的功能,具体到镜片清洗时,又可和镜片表面的某些含Ca2+、Mg2+的物质化合而达到清洗作用。某些助剂的加入,再起到以下作用:缓冲作用:使洗涤剂的PH值能维持稳定。对金属的抗腐蚀作用。能增加洗涤剂的乳化能力和乳化稳定性。可使溶液具有很好的悬浮能力和稳定悬浮系统的能力,可污垢再次沉降。