临汾模具清洗设备厂家排名
各项参数设定采用触摸屏完成。设备整体为密闭结构，具有排风装置。独有的机械手设计使抓取定位更准确。注重人性化设计，可根据用户要求定制。设备总体尺寸6000mm×1600mm×2500mm电源380V、50Hz清洗有效尺寸(L×W×H)350mm×350mm×280mm额定电流50A以下槽体材料不锈钢和特种塑料去离子水流量30L/min温控仪温度30℃～90℃可调温度到±3℃并有状态显示压缩空气压
含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。
加热功率:9KW，采用日本欧姆龙数显温控器控温，温度可调整、设定。温控范围:RT-100℃可调，温控精度:设定值的±3℃。保温:槽外包保温棉。清洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门，水从溢流口流出，通过总排水管排到排水道。预洗槽作用；先将模具上的黄油，冲压油，污物清洗掉，再进行下一道超声波电解清洗。超声波+电解碱洗槽内槽尺寸:780×650×750（L×W×Hmm），槽体采用2.5mm厚304材料制作。
具备抛动清洗功能，清洗均匀。全封闭外壳与抽风系统，确保良好工作环境。1适合单晶硅片研磨、切割后的批量清洗，多晶硅片线剧切片后的大批量清洗清洗工艺流程:自动上料→去离子水→超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→自动下料标准工艺下产量:硅片1000片/小时。自动上料→去离子水＋超声波清洗＋振动筛抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→