安顺模具清洗设备批发价格
一般，当利用硬塑料、玻璃细珠、胡桃壳和铝粒料等作为研磨剂对模具表面进行高压粉碎清洗时，如果过于频繁地使用这些研磨剂或使用不当，这一研磨方法也会使模具表面产生孔隙而易于残余物附着其上，导致产生更多的残余物、磨损，或者导致模具过早断裂或出现毛边等现象，反而更不利于模具的清洗。因此，通过寻找适合于模具和加工工艺的清洗设备，并同时参考存档文件所记录的清洗方法和清洗周期，可以节省50%以上的维修时间，同时可以有效地降低模具的磨损。
模具作为用来制作成型物品的工具，广泛应用于多种材料的成型、压力铸造，如工程塑料、橡胶、陶瓷等。但在橡胶、硅胶的铸造中，因为硫化橡胶、硅胶一定要在高温条件中完成，导致胶料中一些油分或化学品残留在模具内部，久而久之在高温下焦化形成顽固的污垢，所以模具污垢的清洗，一直是件让人焦头烂额的事情。
超声功率:4.5KW（底震式超声振板+两侧震震板）；底振振板尺寸。超声频率:28KHZ/50W超声功率连续可调可显示，可单独控制，配有扫描电路，并设有电流大小指示表，功率指示表，频率指示表。加热功率:9KW，采用日本欧姆龙数显温控器控温，温度可调整、设定。温控范围:RT-100℃可调，温控精度:设定值的±3℃。保温:槽外包保温棉。清洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门；当用为碱液清
采用多点支撑式工件旋转驱动装置，稳定、。操作符合人机工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、灵活。可配置自动氮气鼓泡系统，有效提高产品质量，缩短清洗时间。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用。关键件采用件，提高了设备的性。采用耐腐蚀PP板材，防酸、防腐，有效避免酸雾的侵蚀。封闭式清洗，有效改善工作环境，保障操作人员。控制系统同时具备完善防腐、防潮功能，确保的工作环境化学湿台适用于半导体行业中基片的制造、集成电路芯片的制造等清洗工艺过适用于2"～6"基片的半导体清洗过程中，去除工件表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。可根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元。各部分有独立的控制单元，可随意组合；配有在线方式的去离子水加热系统。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。可根据客户工艺定制。化学操作实验台