深圳模具清洗机厂家地址
目前的模具清洗方法主要是机械清洗、化学清洗和超声清洗，这些方法都存在着缺陷。激光清洗，因其操作简单、免维护、无耗材、不受空间限制、无环境污染，有电就能工作的特点，是传统清洗不能清洗的边角，清洗起来也很容易，激光清洗是一种不伤基材的清洗，有利于提高产品品质。激光清洗模具还具有无研磨、非接触、无热效应和适用于各种材质的物体等清洗特点，被认为是、有效的解决办法。同时，激光清洗可以解决采用传统清洗方式无法解决的问题。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
模具清洗标准模具的清洗: 1.保证模具机水箱的水是饱和状态。2.摆放好拆卸下来的模具。清具的反面一定要对着水阀 。 (保证水 枪对模具的反面喷射，避免水压直接对模 具的正面喷射)3.待模具清洗干净时将铜盘按照摆放继续开启模具清洗机。
适用于冶金技术领域，且其尤其涉及一种在低于600℃的温度下进行一次或多次挤出工艺之后从挤出模具清洁残留在其中的残留金属并回收其残留金属的方法。在一定次数的挤出工艺之后，或者在情况下，在生产的改变下，都需要将金属(例如铝、黄铜、钢、铜等)的挤出系统的模具从待清洁和/或用于维护的系统中移除。通常，此类模具由几个往复联接的部分组成，因此可以获得截面几何形状复杂和/或周长闭合的型面(profile)。