池州模具清洗设备公司
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
各项参数设定采用触摸屏完成。设备整体为密闭结构，具有排风装置。独有的机械手设计使抓取定位更准确。注重人性化设计，可根据用户要求定制。设备总体尺寸6000mm×1600mm×2500mm电源380V、50Hz清洗有效尺寸(L×W×H)350mm×350mm×280mm额定电流50A以下槽体材料不锈钢和特种塑料去离子水流量30L/min温控仪温度30℃～90℃可调温度到±3℃并有状态显示压缩空气压
洗时，溢流为停止状态。电解电源为台湾品牌；电流0~200A可调，电压0~30V可调。配置；阴洗篮，阳电。超声波电解清洗槽作用；将模具上的残留氧化物，积碳，流化物，锈斑清洗去除。内槽尺寸:780×650×750（L×W×Hmm），槽体采用2.5mm厚304材料制作。高压喷淋泵；广州南方泵。漂洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门，水从溢流口流鼓泡:在槽里装有鼓泡管，与需方的气管路连接，通过自动阀门控制。
是指利用激光束高速有效地清除表面附着物或表面涂层的一种工艺方法。其作用原理主要是基于物体表面污染物吸收激光能量后，或气化挥发，或瞬间受热膨胀并蒸汽带动脱离物体表面。模具清洗机