西安模具清洗机市场报价
干洗，用脉冲激光光束直接去污；激光+液膜，即先在待洗表面沉积一层液膜为然后经激光辐射去污，液膜可加速去污；激光+惰性气体，即在激光辐射的同时，吹以惰性气体，表面洗后氧化。其是根据电解一电泳原理设计的模具清洗工艺。先将模具放人碱性电解池中，通电。水被电解成氢和氧，在金属表面形成气泡，从而使已被泡松的模垢破碎、掉下。电解液配方:氢氧化钠130g／L，磷酸钠4Og／L，水玻璃5Og／L，水1L。模具两半片的间距60mm，电流强度为O．O7～0．10A／em，温度为常温。
力0.7MPa液晶生产光刻前清洗机液晶封盒后清洗机适用于液晶生产后工序的清洗，以去除液晶灌注后多余及前道工序残留物，实上料→超声清洗→超声清洗→喷淋清洗→溢流超声漂洗→溢流超声漂洗→喷淋漂洗→慢提拉脱水→热风烘干（2槽）→下料液晶玻璃清洗烘干机是对液晶玻璃进行清洗、烘干的设备。其工作流程是由胶辊传送液晶玻璃片，经过喷淋、毛刷刷洗、海绵吸水及热风烘干，达到清洗液晶玻璃表面污垢及杂质的目的。上下胶辊传送速度同步调整，无级可调。烘干组件对玻璃片的烘干温度可调。吹风风量无级可调，玻璃片烘干所需合理温度。玻璃片厚度调整采用丝杆传动和精密导轨导向调节，具体调节量由百分导轨、电机控制元件等均选用产品，品质。机械关键零件均采用不锈钢材料。
模具清洗方法，超声波清洗，浸泡方法，酸洗，碱洗，电解清洗法。原理:用于清洗模具表面硫化物,瓦斯残留物,塑胶残留物等的有效清洗设备组成:清洗机电解式超声波系统是由超声波发生系统,专用的电解清洗液和优质防锈剂组成。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台