廊坊气相超声波清洗机厂家电话
两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法,其优点是清洗速度快,效率比较高,溶剂本身可以不断蒸馏再生,循环使用;但缺点也比较明显,由于光学玻璃的生产环境要求恒温恒湿,均为封闭车间,溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响,尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。半水基清洗是近年来逐渐发展成熟的一种新工艺,它是在传统溶剂清洗的基础上进行改进而得来的。它有效地避免了溶剂的一些弱点,可以做到,气味轻微,废液可排入污水处理系统;设备上的配套装置更少;使用周期比溶剂要更长;在运行成本上比溶剂更低。
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根据超声清洗的经验来看,不同工件、相同工件的不同制作工艺、不同材料、清洁度要求不一、工件几何形状不同、清洗剂选择不同,对清洗工艺均有非常大的影响,从而清洗设备的结构也不相同。有些甚至需通过实验来确定。选择合理的清洗工艺路线,即可收到良好效果,还可以降低设备制造成本。
酸洗→排液→注纯水→溢流→注水→水洗→排液石英管清洗机特点采用浸泡、旋转式清洗;酸清洗为滚动浸泡式;水清洗为溢流式。采用多点支撑式工件旋转驱动装置,稳定、。操作符合人机工程原理,具有良好的操作界面,使用方便、灵活。可配置自动氮气鼓泡系统,有效提高产品质量,缩短清洗时间。结构紧凑,净化占地面积小,造型美观、实用。关键件采用件,提高了设备的性。采用耐腐蚀PP板材,防酸、防腐,有效避免酸雾的侵蚀。封闭式清洗,有效改善工作环境,保障操作人员。控制系统同时具备完善防腐、防潮功能,确保的工作环境化学湿台适用于半导体行业中基片的制造、集成电路芯片的制造等清洗工艺过程。适用于2"~6"基片的半导体清洗过程中,去除工件表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。可根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元。各部分有独立的控制单元,可随意组合;配有在线方式的去离子水加热系统。结构紧凑,净化占地面积小,造型美观、实用,操作符合人机工程原理。可根据客户工艺定制。
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材料,如果网眼高於50目,对於超声波就表现出实体的性能,将超声波反射回去。当网眼大於1/4英寸时,对於超声波才表现出开放式材料的性能。钩子、架子以及烧杯都可用来支持清洗件。什么是超声波清洗机?人们所听到的声音是频率20-20000Hz的声波信号,高于20000Hz的声波称之为超声波,声波的传递依照正弦曲线纵向传播,即一层强一层弱,依次传递,当弱的声波信号作用于液体中时,会对液体产生一定的负压,即液体体积增加,液体中分子空隙加大,形成许许多多微小的气泡,而当强的声波信号作用于液体时,则会对液体产生一定的正压,即液体体积被压缩减小,液体中形成的微小气泡被压碎。