文昌超声波清洗设备生产厂家
功率的选择超声波清洗效果不一定与功率清洗时间成正比,有时用小功率,花费很长时间也没有清除污垢。而如果功率达到一定数值,有时很快便将污垢去除。若选择功率太大,空化强度将大大增加,清洗效果是提高了,但这时使较精密的零件也产生蚀点,得不偿失,而且清洗缸底部振动板处空化严重,水点腐蚀也增大,在采用三氯乙烯等有机溶剂时,基本上没有问题,但采用水或水溶性清洗液时,易于受到水点腐蚀,如果振动板表面已受到伤痕,强功率下水底产生空化腐蚀更严重,因此要按实际使用情况选择超声功率。清洗液温度的选择水清洗液适宜的清洗温度为40-60,尤其在天冷时若清洗液温度低空化效应差,清洗效果也差。
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半导体/LED/LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。
当超声波清洗机长时间不使用时,请释放清洗液,在槽内和表面干燥后保护膜,防止设备腐蚀老化更快。保持超声波清洗机工作场所通风、干燥和清洁,这有利于超声波清洗机的长期有效运行,优化工作环境条件。
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超声波清洗主要利用了液体的“空化效用”——当超声波在液体中辐射时,液体分子时而受拉,时而受压,形成无数个微小空腔,即所谓“空化泡”。待空化泡瞬间破裂时,会产生部液力冲击波(压强可高达1000个大气压以上),在这种压力连续冲击下,粘附在工件表面的各类污垢会被剥落;同时,在超声波的作用下,清洗液的脉动搅拌加剧,溶解、分散和乳化加速,从而把工件清洗干净。清洗效果好,清洁度高且工件清洁度一致;