东营模具清洗机生产厂家
目前的模具清洗方法主要是机械清洗、化学清洗和超声清洗，这些方法都存在着缺陷。激光清洗，因其操作简单、免维护、无耗材、不受空间限制、无环境污染，有电就能工作的特点，是传统清洗不能清洗的边角，清洗起来也很容易，激光清洗是一种不伤基材的清洗，有利于提高产品品质。激光清洗模具还具有无研磨、非接触、无热效应和适用于各种材质的物体等清洗特点，被认为是、有效的解决办法。同时，激光清洗可以解决采用传统清洗方式无法解决的问题。
洗时，溢流为停止状态。电解电源为台湾品牌；电流0~200A可调，电压0~30V可调。配置；阴洗篮，阳电。超声波电解清洗槽作用；将模具上的残留氧化物，积碳，流化物，锈斑清洗去除。内槽尺寸:780×650×750（L×W×Hmm），槽体采用2.5mm厚304材料制作。高压喷淋泵；广州南方泵。漂洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门，水从溢流口流鼓泡:在槽里装有鼓泡管，与需方的气管路连接，通过自动阀门控制。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
模具保养主要分为三点；1．模具的日常保养:各种运动部件如顶针、行位、导柱、导套加油，模面的清洁，运水的疏道，这是模具生产时每天必须要维护的。２．定期的保养:定期保养包括日常保养之外，还有排气槽的清理，困气烧黑位加排气，损伤、磨损部位修正等等。３．外观保养:模胚外侧涂油漆，以免生锈，下模时，定模动模应涂上防锈油，模具保存时应闭合严实，防止灰尘进入型腔。