西藏三槽超声波清洗机公司
酸洗→排液→注纯水→溢流→注水→水洗→排液石英管清洗机特点采用浸泡、旋转式清洗；酸清洗为滚动浸泡式；水清洗为溢流式。采用多点支撑式工件旋转驱动装置，稳定、。操作符合人机工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、灵活。可配置自动氮气鼓泡系统，有效提高产品质量，缩短清洗时间。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用。关键件采用件，提高了设备的性。采用耐腐蚀PP板材，防酸、防腐，有效避免酸雾的侵蚀。封闭式清洗，有效改善工作环境，保障操作人员。控制系统同时具备完善防腐、防潮功能，确保的工作环境化学湿台适用于半导体行业中基片的制造、集成电路芯片的制造等清洗工艺过程。适用于2"～6"基片的半导体清洗过程中，去除工件表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。可根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元。各部分有独立的控制单元，可随意组合；配有在线方式的去离子水加热系统。结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。可根据客户工艺定制。
超声波清洗优点如下:清洗效果好，清洁度高且全部工件清洁度一致。清洗速度快，提高生产效率，不须人手接触清洗液，安全可靠。对深孔、细缝和工件隐蔽处亦可清洗干净。对工件表面无损伤，节省溶剂、热能、工作场地和人工。
西藏三槽超声波清洗机公司
两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法，其优点是清洗速度快，效率比较高，溶剂本身可以不断蒸馏再生，循环使用；但缺点也比较明显，由于光学玻璃的生产环境要求恒温恒湿，均为封闭车间，溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响，尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。半水基清洗是近年来逐渐发展成熟的一种新工艺，它是在传统溶剂清洗的基础上进行改进而得来的。它有效地避免了溶剂的一些弱点，可以做到，气味轻微，废液可排入污水处理系统；设备上的配套装置更少；使用周期比溶剂要更长；在运行成本上比溶剂更低。
西藏三槽超声波清洗机公司
液晶玻璃清洗烘干机是对液晶玻璃进行清洗、烘干的设备。其工作流程是由胶辊传送液晶玻璃片，经过喷淋、毛刷刷洗、海绵吸水及热风烘干，达到清洗液晶玻璃表面污垢及杂质的目的。上下胶辊传送速度同步调整，无级可调。烘干组件对玻璃片的烘干温度可调。吹风风量无级可调，玻璃片烘干所需合理温度。玻璃片厚度调整采用丝杆传动和精密导轨导向调节，具体调节量由百分表指示。导轨、电机控制元件等均选用产品，品质。机械关键零件均采用不锈钢材料。可清洗29”*29”及以下尺寸的SMT钢网板及PCB板。清洗加热烘干仅需10~15分钟。采用超声波清洗方式，清洗效果佳，效率高。系统采用清洗池粗/精两次过滤，及溢流池的一次过滤可清洗焊锡膏，SMT胶，助焊剂残留，油污及其它颗粒污染物等。系统采用循环喷淋控制，可保持工作液面不变及去除液面比重较轻的污染物如助焊剂，SMT胶等，并工件取出时不受清洗液的二次污染等。