梅州模具清洗机厂家哪家好
当我们知道了模具型腔被污染的原因后，就可以采取应对措施。如在配方设计上，采用与橡胶相容性好的，低分子物质少的，不易迁移析出的配合剂，就能使模具型腔污染情况得到改善。在二烯烃类橡胶被污染的有效配合剂有巯基苯并－1，3－噻唑的钙盐、铝盐:8－羟基－1－萘硫醇；二甲基二硫代氨基甲酸以及与有机磷酸酯铝盐的并用物:和8－羟基喹啉及其与脂肪羧酸钙盐的并用物等。在模具型腔结构设计方面，一定要考虑流胶槽通畅，即使出现污染点，也会在其硫化过程中被剝离掉。另外还要注意对模具型腔各处进行喷砂处理时，也会造成模具型腔表面有凹凸条纹，当橡胶胶料在硫化定型流入凹下条纹时会产生＂投锚＂效果，导致出现与橡胶粘接的现象，造成对模具型腔的污染。针对此种现象，可采用对模具型腔的表面进行镀铬处理、钨铬镀层处理、钒钴合金镀层处理等方法去改善模具型腔汚染。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
是向金属表面发射气体,用桑拿的效果除去金属表面的脏物,不纯物,还可以完全除去树脂成分,湿气;通过超声波的震动污垢剥离漂浮起来,金属附在阴极,即使相当小的角落里的污垢也能完全去除
超声波换能器及超声波清洗设备超声波清洗机的甩干装置以及应用该装置的清洗机一种用于清洗和医疗器具的超声波清洗设备一种用于超声波清洗机的超声波设备一种用于超声波清洗装置的超声波发射器固定装置用于医疗器械清洗的超声波清洗设备一种用于清洗核电设备中工件的超声波清洗器一种用于清洗医用器具的恒温超声清洗设备控制板、超声波清洗发生器及超声波清洗机一种将超声波清洗和喷淋清洗有机结合的设备一种用于玻璃容器超声波清洗的支撑管及超声波清洗机一种用于玻璃容器超声波清洗的支撑管及超声波清洗机化工设备用实验器材超声波清洗机超声波清洗装置以及超声波清洗方法超声清洗方法和超声清洗装置超声波清洗装置、超声波清洗方法超声波清洗装置及超声波清洗方法超声波清洗装置和超声波清洗方法超声波清洗装置以及超声波清洗方法牙科用超声波清洗装置及超声波对牙齿或者义齿的清洗方法