江苏模具清洗机批发价格
洁净如新，只需稍微吹风冷却即可，无须再补充加工。本法的优点是完成清洗，模具在装置内的滞留时间短，仅20～30min。利用超声波的高频、高强度振动，赋予的能量来完成洗模。超声波的生成原理是:当物体振动时，会激发周围介质，并发出固定频率和波长的声波。超声波是一种因弹性振动而产生的纵波，其传播方式与水波相同，能以固定的速度向各个方向传播。声源物体每振动一次，其所产生的声波的传播距离固定，称为波长。单位时间(秒)的振动次数(即声频)称为赫滋(Hz)。人耳能接受和辨认的声频范围为20—20000Hz。凡频率高于20000Hz的称超声波。
含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。
适用于冶金技术领域，且其尤其涉及一种在低于600℃的温度下进行一次或多次挤出工艺之后从挤出模具清洁残留在其中的残留金属并回收其残留金属的方法。在一定次数的挤出工艺之后，或者在情况下，在生产的改变下，都需要将金属(例如铝、黄铜、钢、铜等)的挤出系统的模具从待清洁和/或用于维护的系统中移除。通常，此类模具由几个往复联接的部分组成，因此可以获得截面几何形状复杂和/或周长闭合的型面(profile)。
去离子水＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中