云浮模具清洗设备厂家哪家好
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
一种超声医疗设备的清洗装置一种超声医疗设备的清洗装置用于医设备清洗的高压超声水XX装置一种超声医疗设备的清洗装置一种灯荧光粉超声波清洗设备的气流搅拌装置一种超声波清洗设备全自动进料托架装置带超声波在线清洗装置的DDBD等离子设备一种超声医疗设备的清洗装置一种超声医疗设备的清洗装置带有号筒式超声波振荡器的超声波荫罩清洗装置基于MEMS超声换能器阵列的水下镜头在线实时超声清洗装置一种超声波清洗设备传输装置一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置具有超声波清洗装置的纺织品处理设备一种电子设备用基于超声波应用的贴片电容清洗装置超声清洗机的平台及超声清洗机超声波清洗机的槽体及其超声波清洗机一种多功能超声波清洗轮胎设备的提升装置超声波清洗设备的抓取装置一种食品加工设备用附件的超声波清洗装置一种超声波清洗装置及设备一种超声医疗设备的清洗装置
模具专用清洗剂，具有很强的清洁力，能迅速清除模具表面的污积物，有效去除模具表面的防锈膜、油脂、蜡质以及工业污垢，不残留痕迹，也可以清除附着于模具表面的胶料或顶针顽劣污渍。
专门制备一种水悬浮液，其成分包括:碳化硅20％，碳酸钠1．5％，水78．5％。将上述洗液直接喷向模腔表面，洗掉污垢，把残留于表面的磨料冲刷掉即可。本法的设备构造简单，使用也方便，而且清洗一次后可保持较长时间。不助于改善劳动条件(指与喷砂法相比)，也提高了产品质量。本法需有设备配套，其构造见。其是一种半机械／半手工方法，清洗材料既非固体状颗粒，也非水悬浮液，而是经过配合的膏状体。其成分包括磨料、氧化铬、液态洗液、煤油及其他化学物品，如硅酸、硬脂酸、裂解油脂等。操作时，将软膏涂在毡片上，可以用手工擦，也可由电动机往复驱动，实现半自动擦洗。因由电动机提供动力，强度高，对模具的材质要求较高，渗碳钢或镀铬钢适用。