黑河气相超声波清洗机厂家
清洗缸缸底要定期冲洗,不得有过多的杂物或污垢。每次换新液时,待超声波起动后,方可洗件超声波清洗设备特点通用超声波清洗机超声波清洗机的结构一般有超声电源和清洗器合为一体或分开布两种形式,一般小功率清洗机用一体式结构,而大功率清洗机采用分体式结构。超声波清洗机分体式结构由三个主要部分组成清洗缸;超声波发生器;超声波换能器。清洗缸:清洗缸是用来装载清洗液及被清洗工件的不锈钢容器,大多数工件可先装在网状框架内,再一起放人缸内清洗。超声波发生器:超声清洗机用的超声波发生器,从使用的元器件种类可以分电子管式的,可控硅式的和晶体管式的。
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半导体/LED/LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。
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清洗速度快,提高生产效率;不须人手接触清洗液,;对深孔、细缝和工件隐蔽处亦可清洗干净;对工件表面无损;节省溶剂、热能、工作场地和人工等。超声波的两个主要参数:频率:F≥17.6KHz功率密度ρ=发射功率(w)/发射面积(cm2)通常ρ≥0.3W/CM2清洗效果及相关参数清洗介质:化学溶剂与水基清洗剂清洗温度:采用40℃-60℃的工作温度佳。温度低会降低溶液化学活性。而温度高则提高了气泡内气体的弹性。
对超声波清洗器的清洁可以分为两种——日常清洁和定期清洁,前者在每次使用后都需要软性材料进行内外清理;而后者则须按照要求规dao定用专业的工具和方式定期做好清洁,期间要避免可能损伤仪器的行为。