贵州气相超声波清洗机批发价格
炉前(RCA)清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶,SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台硅片清洗设备特点手动硅片清洗设备特点:可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。功能槽包括:加热酸缸、HF腐蚀、BHF(HF恒温缓冲腐蚀)、超声清洗槽、恒温水浴、QDR(快排冲水)、电炉等。
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磁致伸缩换能器国内用的磁致伸缩换能器大多数是用镍片叠成的窗口型换能器,将它银焊在清洗缸底部,然后用导线在窗口上绕一定卷数而成。此种换能器能承受较大功率,且性好,使用寿命长。缺点为效率较压电换能器低,原材料镍片价格贵。压电式换能器目前国内外大多数超声波清洗机用的是压电式换能器,勘L形结构如图5。这种换能器一般有两片压电陶瓷晶片组成。一台清洗机用多个换能器,经粘接剂粘接在清洗缸底部且经并联联接组成一台清洗机的换能器。换能器基元之间距(对于频率20kHz)一般在510mm为佳,太大了容易产生弯曲振动,且振动板受到腐蚀,同时辐射面相对减少。通用超声清洗机清洗零件适用性强,已广泛应用于电
当超声波清洗机长时间不使用时,请释放清洗液,在槽内和表面干燥后保护膜,防止设备腐蚀老化更快。保持超声波清洗机工作场所通风、干燥和清洁,这有利于超声波清洗机的长期有效运行,优化工作环境条件。
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由于研磨粉是碱金属氧化物,溶剂对其清洗能力很弱,所以镜片加工过程中产生的研磨粉基本上是在水基清洗单元内除去的,故而对水基清洗剂提出了高的要求。以前由于国内的光学玻璃水基清洗剂品种较少,很多外资企业都选用的清洗剂。而目前国内已有公司开发出光学玻璃清洗剂,并成功地应用在国内数家大型光学玻璃生产厂,清洗效果可以取代产品,在腐蚀性(防腐性能)等上更是优于产品。对于IPA慢拉干燥,需要说明的一点是,某些种类的镜片干燥后容易产生水印,这种现象一方面与IPA的纯度及空气湿度有关,另一方面与清洗设备有较大的关系,尤其是双臂干燥的不如单臂干燥的好,需要设备厂家及用户注意此点。