新乡三槽超声波清洗机厂家供应
超声清洗工艺及清洗液的选择在购买清洗系统之前，应对被清洗件做如下应用分析:明确被洗件的材料构成、结构和数量；分析并明确要清除的污物；决定所要使用的清洗方法，判断应用水性清洗液还是用溶剂，需做清洗实验。只有这样，才能提供合适的清洗系统、设计合理的清洗工序以及清洗液。化学剂的选择考虑到清洗液的物理特性对超声清洗的影响，其中蒸汽压、表面张力、黏度以及密度应为显着的影响因素。温度能影响这些因素，所以它也会影响空化作用的效率。清洗系统使用清洗液。水性系统通常由敞口槽组成，工件浸没其中。而复杂的系统会由多个槽组成，并配备循环过滤系统、冲淋槽、干燥槽以及其它附件。对於使用溶剂的系统，多为超声波汽相除油脂清洗机，常配备废液连续回收装置。超声波汽相清除油脂过程是由溶剂蒸发槽和超声浸洗槽组成的集成式多槽系统完成的。在热的溶剂蒸汽和超声激荡共同作用下，油、脂、蜡以及其他溶於溶剂的污垢就被除去。
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根据超声清洗的经验来看，不同工件、相同工件的不同制作工艺、不同材料、清洁度要求不一、工件几何形状不同、清洗剂选择不同，对清洗工艺均有非常大的影响，从而清洗设备的结构也不相同。有些甚至需通过实验来确定。选择合理的清洗工艺路线，即可收到良好效果，还可以降低设备制造成本。
表面处理行业:电镀前的除油除锈；离子镀前清洗；磷化处理；清除积炭；清除氧化皮；清除抛光膏；金属工件表面活化处理等。仪器仪表行业:精密零件的高清洁度装配前的清洗等。电子行业:印刷线路板除松香、焊斑；高压触点等机械电子零件的清洗等。医疗行业:医疗器械的清洗、、杀菌、实验器皿的清洗等。半导体行业:半导体晶片的高清洁度清洗。钟表首、饰行业:清除油泥、灰尘、氧化层、抛光膏等。化学、生物行业:实验器皿的清洗、除垢。光学行业:光学器件的除油、除汗、清灰等。纺织印染行业:清洗纺织锭子、喷丝板等。石油化工行业:金属滤网的清洗疏通、化工容器、交换器的清洗等。
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半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。