南充模具清洗设备批发价格
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。
用改进的超声喷雾器清洗和翻新织物的设备以及改进的超声喷雾器针对在处理织物的轻便、可折叠的清洗和翻新设备中使用的超声喷雾器。该超声喷雾器包括一个外壳，该外壳被隔膜——优选由柔软的膜，更优选由伊诺克斯膜制成——分成至少两个隔室，其中至少一个隔室是不漏液体和不透气的，该喷雾器还包括至少一个产生超声波的压电振动器，其位于不漏液体和不透气的隔室内，一个用于激发所述压电振动器的高频振荡器，其中所述液体或胶状介质被内置的加热设备加热到至少30℃，优选至少40℃，更优选至少50℃。
在模具长时间工作后，材料在熔融状态下，会析出或分解生成的碳化物粘附在模腔上，它们有较大的硬度和一定的腐蚀性。这两种情况会使模具发生腐蚀或磨损，为避免模具受到腐蚀进而引起生锈，一旦发现有碳化物，就应立即进行清除。常的办举动是用干布擦除，有些难清洗的情况，可以蘸上专门的模具清洗剂（LusinCleanL21F），湿润模具表面后，即可擦除。以热流道模具为例，为了加快材料在模具内的冷却，缩短成型周期，控制制品的成型速度与品质，很多模具中是要通冷却水的。那么当生产完成，或临时停机时，如果操作处理不当，有可能引起模具因冷凝水生锈，那么，如何用模具防锈剂避免冷却水间接导致的模具锈蚀？