温州双槽超声波清洗机厂家直销
适合单晶硅片研磨、切割后的批量清洗，多晶硅片线剧切片后的大批量清洗。清洗工艺流程:自动上料→去离子水→超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→自动下料标准工艺下产量:硅片1000片/小时。自动上料→去离子水＋超声波清洗＋振动筛抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→自动下料
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光学行业:光学器件的除油，除汗，清灰等等。半导体行业:半导体晶片的高清洁度清洗。科教文化:化学生物等实验器皿的清洗，除垢。钟表首饰:清除油泥，灰尘，氧化层，抛光膏等。
当超声波清洗机长时间不使用时，请释放清洗液，在槽内和表面干燥后保护膜，防止设备腐蚀老化更快。保持超声波清洗机工作场所通风、干燥和清洁，这有利于超声波清洗机的长期有效运行，优化工作环境条件。
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超声波发生器:超声清洗机用的超声波发生器，从使用的元器件种类可以分电子管式的，可控硅式的和晶体管式的。近几年来已经发展到用大功率“功率模块”的方式。其输出功率从几十瓦直到几千瓦，工作频率从15kHz—40kHzo超声清洗机用的超声波发生器，有以下特点:随着清洗液深度不同，换能器共振频率和阻抗变化很大。但是实践表明，槽内放进适量清洗物后，基本上就可以稳定在某一定数值上。一般来说，由于清洗负载变动较小，可以不要求复杂的频率自动跟踪电路。