大庆模具清洗设备厂家有哪些
适用于2"～6"硅片的清洗及湿法腐蚀。能够有效的去除硅片表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。清洗槽部分包括化学槽、加热槽和快排槽设备的电气、管路、循环系统，均采用部件；PLC控制，清洗时间可调。设备组成:在线加热、清洗槽、伺服系统、电气控制系统、机架等。可根据用户要求配置氮气枪、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪等本设备为浸泡式清洗机，用于半导体行业扩散炉石英管清洗槽体材料为聚丙烯（PP）塑料或PVDF材料，支架采用不锈钢，耐腐蚀管件、泵、电磁阀均选用的是产品，性能稳定触摸屏PLC控制，流量及温度，超纯净泵的压力、流量可设置选配气体喷枪可根据用户要求订制清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，
具备抛动清洗功能，清洗均匀。全封闭外壳与抽风系统，确保良好工作环境。1适合单晶硅片研磨、切割后的批量清洗，多晶硅片线剧切片后的大批量清洗清洗工艺流程:自动上料→去离子水→超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→自动下料标准工艺下产量:硅片1000片/小时。自动上料→去离子水＋超声波清洗＋振动筛抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→
超声功率:4.5KW（底震式超声振板+两侧震震板）；底振振板尺寸。超声频率:28KHZ/50W超声功率连续可调可显示，可单独控制，配有扫描电路，并设有电流大小指示表，功率指示表，频率指示表。加热功率:9KW，采用日本欧姆龙数显温控器控温，温度可调整、设定。温控范围:RT-100℃可调，温控精度:设定值的±3℃。保温:槽外包保温棉。清洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门；当用为碱液清
是一家专业清洗设备生产供应商。公司一直致力于超声波在清洗领域的应用的研究。并一直为清洗设备的稳定、高效等各方面的研究和升级。公司汇集了一批研发、设计、制造的专业人才，引进了先进的工业技术和管理手段，拥有剪板、折弯、割、氩弧焊等全套钣金加工设备。