德阳超声波清洗设备公司
超声波清洗主要利用了液体的“空化效用”——当超声波在液体中辐射时，液体分子时而受拉，时而受压，形成无数个微小空腔，即所谓“空化泡”。待空化泡瞬间破裂时，会产生部液力冲击波（压强可高达1000个大气压以上），在这种压力连续冲击下，粘附在工件表面的各类污垢会被剥落；同时，在超声波的作用下，清洗液的脉动搅拌加剧，溶解、分散和乳化加速，从而把工件清洗干净。清洗效果好，清洁度高且工件清洁度一致；
德阳超声波清洗设备公司
半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。
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清洗剂也溶解了污垢，产生乳化分散的化学力。空化阂与介质的粘滞性有关，粘度大，表面张力大，空化阂高。空化阂与液体含气量有关，含气量越少，空化阂越高。空化阂与清洗液温度有关，清洗液温度升高，对空化有利。但清洗液温度过高时，气泡中蒸气压增大，因在气泡闭合期增强了缓冲作用而使空化减弱。而温度还与清洗液的溶解度有关。对于水清洗液较适宜的温度约为60度。在超声空化作用一定时间后，被清洗件上的污垢逐渐脱落(当然也有清洗液本身的作用在内)，这就是超声波清洗的基本原理。
为了保证超声清洗设备良好的使用品质和稳定的运转效果必须要采用合适的溶剂进行操作，借助超声清洗设备自身的空化效果和功能模式并使用优质的溶剂作为基础，才能够让这种超声清洗设备的运转更加畅快并且拥有更好的品质，也能够借助合理的容器避免对设备的运转造成腐蚀，让设备能够呈现稳定运转的同时拥有更好的使用寿命