崇左模具清洗设备厂家地址
适用于2"～6"硅片的清洗及湿法腐蚀。能够有效的去除硅片表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。清洗槽部分包括化学槽、加热槽和快排槽设备的电气、管路、循环系统，均采用部件；PLC控制，清洗时间可调。设备组成:在线加热、清洗槽、伺服系统、电气控制系统、机架等。可根据用户要求配置氮气枪、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪等本设备为浸泡式清洗机，用于半导体行业扩散炉石英管清洗槽体材料为聚丙烯（PP）塑料或PVDF材料，支架采用不锈钢，耐腐蚀管件、泵、电磁阀均选用的是产品，性能稳定触摸屏PLC控制，流量及温度，超纯净泵的压力、流量可设置选配气体喷枪可根据用户要求订制清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，
去离子水＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中
模具专用清洗剂，具有很强的清洁力，能迅速清除模具表面的污积物，有效去除模具表面的防锈膜、油脂、蜡质以及工业污垢，不残留痕迹，也可以清除附着于模具表面的胶料或顶针顽劣污渍。
目前的模具清洗方法主要是机械清洗、化学清洗和超声清洗，这些方法都存在着缺陷。激光清洗，因其操作简单、免维护、无耗材、不受空间限制、无环境污染，有电就能工作的特点，是传统清洗不能清洗的边角，清洗起来也很容易，激光清洗是一种不伤基材的清洗，有利于提高产品品质。激光清洗模具还具有无研磨、非接触、无热效应和适用于各种材质的物体等清洗特点，被认为是、有效的解决办法。同时，激光清洗可以解决采用传统清洗方式无法解决的问题。