衡水模具清洗设备厂家排名
原位清洗也称定位清洗法。前提是设计一种的胶料，这种胶料可覆贴在模腔表面。硫化后撕下此覆贴层时，原来的模垢层也被一起带了下来，从而使模腔表面得到一次彻底的清洗。设计这种胶的关键是配加能起清洗作用的组分(通常是含氨基或羟胺的化合物)，具体品种有:聚乙醇胺、二乙醇胺、2一氨基一2一甲基一1一丙醇。在硫化过程中，能渗入金属与模垢之界面，从而削弱模垢与金属的结合，待硫化结束，除垢也同步完成。与其他清洗方法相比，原位清洗具有以下三方面的优点:清洗速度快。清洗胶的硫化／促进体系很强，硫化周期很短。如MCR在160-190~C温度下，正硫化时间仅5min。。原位洗模胶所需的洗模时间很短，耗能较少。对于体积大的模具，这种反差更为明显。对模具而言，不会因为洗模而影响表面光洁度，更不会影响尺寸精密度。超声波清洗的原理把液体放入清洗槽内，给槽内作用超声波。由于超声波与声波一
含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。
CK211（有金属水性清洗剂）。水溶性清洗剂是由乳化剂、螯合剂、清净剂与金属腐蚀抑制剂等成分组合成和快捷车载水基低碱性清洗剂。适用于在金属模具和钢铁、铝、铜、塑料及橡胶及制品表面油污的清洗，更重要对动植物油污清洗有视觉效果。使用配方、清洗速度快、煮沸彻底，与此同时带有中长期金属防锈处置能力。在清洗剂的组份选择上-不锈钢清洗剂会伤害不锈钢吗因此挑选对金属无腐蚀促进作用和常温清洗剂才能，对清洗剂的其他建议也不低。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台