乐山三槽超声波清洗机公司
半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。
定期检查商用超声波清洗机的阀门工作是否正常，检查方法参照厂家说明，如果发现商用超声清洗机异常，就需要及时汇报或及时聘请相关人员进行维修。此外还需要每年对仪器的温度传感器等进行校准（由相关维保人员完成）。
乐山三槽超声波清洗机公司
超声波发生器电源应单独使用一路220V/50Hz电源并配装2000W以上稳压器。清洗缸缸底要定期冲洗，不得有过多的杂物或污垢。每次换新液时，待超声波起动后，方可洗件。使超声波清洗效果佳的方式超声波清洗槽的温度好为3050。根据不同的清洗对象正确选择清洗剂。清洗剂一般分为水基（碱性）清洗剂、有机溶剂清洗剂和化学反应清洗剂。通常使用多的为水基清洗剂。根据被清洗物的污染程度和污垢性质，选用不同的清洗时间。节约清洗液的小窍门超声波清洗机的清洗液可以循环使用，这种清洗方式可以节约大量的清洗液，每次使用完清洗机后，好将清洗液放入容器中，下次使用时再倒入清洗槽，余下的沉淀物可处理掉。
乐山三槽超声波清洗机公司
在清洗方式中，清洗成本大体可分为:设备成本和消耗成本。超声波清洗设备使用寿命约为十年，除设备购置成本高于手工清洗和有机碱性溶剂刷洗外，低于气相清洗和高压水射流清洗，对于消耗成本，以有效尺寸为600×400×350mm，功率为1KW，价格约为1万元的超声波清洗机为例，工作一小时，耗电1度，费用约为0.5元，碱性金属清洗剂1公斤，价格约为20元，可反复使用20-50个小时（根据污染程度而定），相当于0.4-1元/小时，而一般工件清洗时间仅为3-15分钟即可，且一次清洗可对一定数量及体积的工件同时清洗，因此对于消耗成本而言，采用超声波清洗，不仅清洗效果好，而且清洗成本相当于不到0.04元/件，还不算节省的劳动力成本，远远低于其他各类清洗方法。