岳阳气相超声波清洗机厂家
光学行业:光学器件的除油，除汗，清灰等等。半导体行业:半导体晶片的高清洁度清洗。科教文化:化学生物等实验器皿的清洗，除垢。钟表首饰:清除油泥，灰尘，氧化层，抛光膏等。
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空化阂与介质中气泡半径有关，半径越小，空化阂越高。宝化阂与声波作用时间长短有关，声波幅射时间越长，空化阐越低。空化阂与环境静压力有关，静压力越大，空化阂越高。空化阂与介质的粘滞性有关，粘度大，表面张力大，空化阂高。空化阂与液体含气量有关，含气量越少，空化阂越高。空化阂与清洗液温度有关，清洗液温度升高，对空化有利。但清洗液温度过高时，气泡中蒸气压增大，因在气泡闭合期增强了缓冲作用而使空化减弱。而温度还与清洗液的溶解度有关。对于水清洗液较适宜的温度约为60Y。
超声波清洗机采用不易燃洗涤剂，不使用易燃易爆物质进行清洗剂，使用设备时需确保易燃易爆物质的应用避免场合，用户必须使用一定的物质在特殊情况下，应咨询部门确认安全，并采取适当的安全措施。
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半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。