贵阳模具清洗机厂家地址
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。
这是原始的除垢方法，通常由操作者手持金属刷或砂皮对污垢表面施力磨擦，一直到积垢除尽为止。这类方法使用简单，但效果往往不太理想。对内凹面、细纹沟漕的清洗，往往彻底，另外还耗时、费工。为了提高清洗效率，手工除垢可以和溶剂浸渍相结合。通常把模具置于浓度为20％的苛性钠水溶液中，浸泡3-8小时，取出用清水冲洗后再洗刷模腔，用布抹干后再涂上防腐油，存放待用。如果把碱液加温到60~80~C，则浸泡时间可大大缩短。为了加强手工洗模的效果，加快去污，还开发了洗模液，添加在上述碱液中，具有很好的洗净效果。如日本生产的KR303j就是常用的一种。
运用超声波清洗机清洗模具、五金件时，需求依据实践运用状况调整设备的操作和运用。由于物料不同，每个清洗五金件螺丝钉的污染水平不同，能够依据每个清洗五金件螺丝钉调整清洗时间。因而，有必要运用不同的清洗元件和清洗目的。用超声波模具清洗机来清洗五金件螺丝钉，洗得真洁净!对清洗液的请求也有一定的差距。常用的清洗计划包括粘度和清洗效果，以及超声波模具清洗机的清洗效果。速度快，工序缩短至分钟，五金件螺丝钉清洗效率系数大大进步，本钱高，有效降低消费本钱，清洗质量。因而，这种设备有助于改善工人的工作条件，在许多地域遭到普遍关注。在购置清洁系统之前，有必要理解要清洁的部件的应用。肯定清洗部件的资料构造、清洗量、需求肃清的污垢、运用水溶液或溶剂的先决条件，并经过清洗实验考清洗过程。