济宁模具清洗设备生产厂家
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台
模具作为用来制作成型物品的工具，广泛应用于多种材料的成型、压力铸造，如工程塑料、橡胶、陶瓷等。但在橡胶、硅胶的铸造中，因为硫化橡胶、硅胶一定要在高温条件中完成，导致胶料中一些油分或化学品残留在模具内部，久而久之在高温下焦化形成顽固的污垢，所以模具污垢的清洗，一直是件让人焦头烂额的事情。
一般，当利用硬塑料、玻璃细珠、胡桃壳和铝粒料等作为研磨剂对模具表面进行高压粉碎清洗时，如果过于频繁地使用这些研磨剂或使用不当，这一研磨方法也会使模具表面产生孔隙而易于残余物附着其上，导致产生更多的残余物、磨损，或者导致模具过早断裂或出现毛边等现象，反而更不利于模具的清洗。因此，通过寻找适合于模具和加工工艺的清洗设备，并同时参考存档文件所记录的清洗方法和清洗周期，可以节省50%以上的维修时间，同时可以有效地降低模具的磨损。
其主要就成分表面活性剂有数种类型，国产的核心不为离子型表面活性剂，有醚、酯、酰胺、聚醚等4类，有着很强的活性碳能力。在采用金属清洗剂时，应考虑以下事项。考虑零件污垢的种类与性质。汽车零件污垢的种类和性质差异大，有油泥、水垢、积炭、锈迹等固相油污及润滑油、脂的残留物及液相油污。水垢和锈迹有用除垢清洗剂移除。油脂等需用轻油污清洗剂清洗。煤油和汽油来清洗零件-不锈钢除锈清洗剂那一方面浪费能源，且普遍存在著潜在的不因素，处理不当，亦即使酿火灾。