衡水模具清洗设备厂家电话
用改进的超声喷雾器清洗和翻新织物的设备以及改进的超声喷雾器针对在处理织物的轻便、可折叠的清洗和翻新设备中使用的超声喷雾器。该超声喷雾器包括一个外壳，该外壳被隔膜——优选由柔软的膜，更优选由伊诺克斯膜制成——分成至少两个隔室，其中至少一个隔室是不漏液体和不透气的，该喷雾器还包括至少一个产生超声波的压电振动器，其位于不漏液体和不透气的隔室内，一个用于激发所述压电振动器的高频振荡器，其中所述液体或胶状介质被内置的加热设备加热到至少30℃，优选至少40℃，更优选至少50℃。
洗时，溢流为停止状态。电解电源为台湾品牌；电流0~200A可调，电压0~30V可调。配置；阴洗篮，阳电。超声波电解清洗槽作用；将模具上的残留氧化物，积碳，流化物，锈斑清洗去除。内槽尺寸:780×650×750（L×W×Hmm），槽体采用2.5mm厚304材料制作。高压喷淋泵；广州南方泵。漂洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门，水从溢流口流鼓泡:在槽里装有鼓泡管，与需方的气管路连接，通过自动阀门控制。
模具清洗方法，超声波清洗，浸泡方法，酸洗，碱洗，电解清洗法。原理:用于清洗模具表面硫化物,瓦斯残留物,塑胶残留物等的有效清洗设备组成:清洗机电解式超声波系统是由超声波发生系统,专用的电解清洗液和优质防锈剂组成。
去离子水＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→去离子水＋超声波清洗＋抛动＋溢流→半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中