汉中双槽超声波清洗机批发价格
较长时间的超声空化作用,会使被清洗件表面的基体金属有一定程度的剥落,这称为空化的浸蚀作用。超声冲击波能在液体中产生微冲流,具有搅拌作用。在不相溶的两相液体中,微冲流能促使两液相面加速互相分散,具有乳化作用。超声空化的产生是依附于空化核进行的,而被清洗件表面的缝隙正好是空化核的中心。总之,超声波清洗是超声空化作用、浸蚀作用、搅拌作用、乳化作用及空化核作用的综合表现。其中空化作用在超声波清洗中是起主要作用的,它能破坏污垢微粒在被清洗件表面的粘附状态。再加上微冲流的作用,使清洗液产生振动和搅拌,将污垢从被清洗件表面清除干净。而乳化作用则使清洗下来的油污很快地分散、乳化在清洗液中。
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根据超声清洗的经验来看,不同工件、相同工件的不同制作工艺、不同材料、清洁度要求不一、工件几何形状不同、清洗剂选择不同,对清洗工艺均有非常大的影响,从而清洗设备的结构也不相同。有些甚至需通过实验来确定。选择合理的清洗工艺路线,即可收到良好效果,还可以降低设备制造成本。
超声波发生器电源应单独使用一路220V/50Hz电源并配装2000W以上稳压器。清洗缸缸底要定期冲洗,不得有过多的杂物或污垢。每次换新液时,待超声波起动后,方可洗件。使超声波清洗效果佳的方式超声波清洗槽的温度好为3050。根据不同的清洗对象正确选择清洗剂。清洗剂一般分为水基(碱性)清洗剂、有机溶剂清洗剂和化学反应清洗剂。通常使用多的为水基清洗剂。根据被清洗物的污染程度和污垢性质,选用不同的清洗时间。节约清洗液的小窍门超声波清洗机的清洗液可以循环使用,这种清洗方式可以节约大量的清洗液,每次使用完清洗机后,好将清洗液放入容器中,下次使用时再倒入清洗槽,余下的沉淀物可处理掉。
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适合单晶硅片研磨、切割后的批量清洗,多晶硅片线剧切片后的大批量清洗。清洗工艺流程:自动上料→去离子水→超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→自动下料标准工艺下产量:硅片1000片/小时。自动上料→去离子水+超声波清洗+振动筛抛动→碱液+超声波清洗+抛动→去离子水+超声波清洗+抛动→碱液+超声波清洗+抛动→碱液+超声波清洗+抛动→去离子水+超声波清洗+抛动+溢流→去离子水+超声波清洗+抛动+溢流→自动下料