新乡双槽超声波清洗机厂家
半水基清洗采用的清洗流程如下:半水基清洗剂(超声波)-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥此种清洗工艺同溶剂清洗相比大的区别在于,其前两个清洗单元:有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果,但却无法清洗研磨粉等无机物;半水基清洗剂则不同,不但可以清洗沥青等有机污染物,还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果,从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度很慢,气味小。采用半水基清洗剂清洗的设备在个清洗单元中无需密封冷凝和蒸馏回收装置。但由于半水基清洗剂粘度较大,并且对后续工序使用的水基清洗剂有乳化作用,所以第二个单元须市水漂洗,并且好将其设为流水漂洗。国内应用此种工艺的企业不多,其中一个原因是半水基清洗剂多为,价格比较昂贵。从水基清洗单元开始,半水基清洗工艺同溶剂清洗工艺基本相同。
定期检查商用超声波清洗机的阀门工作是否正常,检查方法参照厂家说明,如果发现商用超声清洗机异常,就需要及时汇报或及时聘请相关人员进行维修。此外还需要每年对仪器的温度传感器等进行校准(由相关维保人员完成)。
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适用于ITO玻璃的光刻前清洗,去除ITO玻璃表面残留物。设备总共9个工位,分别是:上料、NaOH超声摇动清洗、NaOH超声摇动清洗、纯水摇动清洗、超声波纯水摇动清洗、超声波纯水摇动清洗、纯水摇动清洗、下料、离心脱水。其中NaOH摇动清洗水温为室温至50℃可调,纯水为常温清洗。适用于液晶生产后工序的清洗,以去除液晶灌注后多余及前道工序残留物,实现精密清洗。上料→超声清洗→超声清洗→喷淋清洗→溢流超声漂洗→溢流超声漂洗→喷淋漂洗→慢提拉脱水→热风烘干(2槽)→下料
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超声波清洗机之所以能够起到清洗污垢的作用,其过程是由下列引起的:空化、声流、声的辐射压力和声学毛细效应。在清洗过程中,不洁物的表面会产生表面污垢膜的破坏、剥落、分离以及乳化、溶解等现象。不同的因素对清洗机的影响也不同。对于那些附着不太紧的污垢,清洗主要靠空化气泡(未爆破的空化气泡)振动力的作用。在污垢的边缘,由于脉冲气泡的强烈振动和爆破,破坏了污垢薄膜与物体表面之间的结合力,起到了扯裂与剥离的作用。声学辐射压力与声学毛细效应,促使洗涤液渗入被清洗物件的微小凹陷表面和微孔,声流可以促使污垢加速从表面脱离。