重庆双槽超声波清洗机厂家哪家好
从超声波清洗机的清洗原理我们不难理解，为什麽它的清洗效率和效果都异常出。不论工件形状多麽复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波的清洗作用达到；清洗时，液体内产生的气泡均匀，工件的清洗效果也将的均匀一致；配合清洗剂的使用，加速污染物的分离和溶解，可有效清洗液对工件的腐蚀；无需手工清理，杜了手工清洗对工件产生的伤害，避免繁重肮脏的体力劳动。自超声波清洗技术问世以来，其出众的清洗效能深得广大行业用户的青睐，其中尤以其显著地提高了清洗效率及清洗效果而让人一见倾心。以往在肮脏的环境中通过繁重的体力劳动，需要长时间地进行手工清洗的复杂机械零件，应用了超声波清洗机以后，不仅改善了劳动环境，减轻了劳动强度，而且在大幅提高清洗精度的基础上，清洗时间缩短为原来的四分之一。较之现在清洗方法，超声波清洗的效率是高的。
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光学行业:光学器件的除油，除汗，清灰等等。半导体行业:半导体晶片的高清洁度清洗。科教文化:化学生物等实验器皿的清洗，除垢。钟表首饰:清除油泥，灰尘，氧化层，抛光膏等。
当超声波清洗机长时间不使用时，请释放清洗液，在槽内和表面干燥后保护膜，防止设备腐蚀老化更快。保持超声波清洗机工作场所通风、干燥和清洁，这有利于超声波清洗机的长期有效运行，优化工作环境条件。
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炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台硅片清洗设备特点手动硅片清洗设备特点:可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。功能槽包括:加热酸缸、HF腐蚀、BHF（HF恒温缓冲腐蚀）、超声清洗槽、恒温水浴、QDR（快排冲水）、电炉等。