台州模具清洗机市场报价
金属表面清洗剂是指用作清洗金属材料表面油、蜡、锈、胶、涂、粉、积碳、手印、汗渍、切削液以及它物质用的清洗剂的通称。常用和金属材料有铜(纯铜，青铜，白铜、黄铜等)、铁(不锈铁、马口铁)、钢(碳素钢、合金钢)、镀锌板、铝(纯铝、铝合金)、合金及。和短期防锈剂能力-铜锈清洗剂CK142电器机械设备清洗剂。本品是替代汽油、煤油、化学物质有毒有机溶剂。和清洗能力，和短期内防锈剂能力。铸铁、铝材、镀锌、铜防锈剂等，能清除金属模具加工中油污、水分、粉尘等各种类型污物，不含ODS及重金属物质，性坏。
各项参数设定采用触摸屏完成。设备整体为密闭结构，具有排风装置。独有的机械手设计使抓取定位更准确。注重人性化设计，可根据用户要求定制。设备总体尺寸6000mm×1600mm×2500mm电源380V、50Hz清洗有效尺寸(L×W×H)350mm×350mm×280mm额定电流50A以下槽体材料不锈钢和特种塑料去离子水流量30L/min温控仪温度30℃～90℃可调温度到±3℃并有状态显示压缩空气压
模具专用清洗剂，具有很强的清洁力，能迅速清除模具表面的污积物，有效去除模具表面的防锈膜、油脂、蜡质以及工业污垢，不残留痕迹，也可以清除附着于模具表面的胶料或顶针顽劣污渍。
晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台